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螺旋硅鉬棒

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硅碳棒在不同氣氛下的反應(yīng)與解決辦法

發(fā)布日期：2014-07-23 22:58

氣氛	爐溫（度）	表面負(fù)荷（W/cm²）	對(duì)元件的影響	解救、決辦法
氨	1300	3.8	與碳化硅作用會(huì)生成甲烷，減少保護(hù)膜	露點(diǎn)激活
二氧化碳	1450	3.1	會(huì)侵蝕碳化硅	可以用石英或剛玉管保護(hù)
18%一氧化碳	1500	4.0	無影響
20%一氧化碳	1360	3.8	會(huì)吸附碳粒影響保護(hù)膜	用石英，剛玉或鋯保護(hù)管加以保護(hù)
鹵素	700	3.8	會(huì)侵蝕碳化硅減少保護(hù)膜的生成	用石英管保護(hù)
碳?xì)浠衔?/td>	1300	3.1	會(huì)吸附碳粒而導(dǎo)致熱污染	可以送進(jìn)充分的空氣
氫	1290	3.1	會(huì)與碳化硅反應(yīng)生成甲烷，減少保護(hù)膜	露點(diǎn)激活
甲烷	1370	3.1	會(huì)吸附碳粒導(dǎo)致熱污染	用剛玉或鋯管加以保護(hù)
氮	1370	3.1	會(huì)與碳化硅發(fā)生反應(yīng)形成氮化硅絕緣層	用剛玉或鋯質(zhì)管保護(hù)
鈉	1300	3.8	會(huì)侵蝕碳化硅	可以用石英，剛玉管保護(hù)
二氧化硫	1310	3.8	會(huì)侵蝕碳化硅	可以用石英，鋯質(zhì)管或剛玉管保護(hù)
真空			無法生成保護(hù)膜
氧	1300	3.8	會(huì)加快碳化硅的氧化	用保護(hù)管對(duì)元件加以保護(hù)
水分（不同含量）	1000-1370	3.1-3.6	會(huì)與碳化硅反應(yīng)生成硅的水化物	用保護(hù)管加以保護(hù)

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